Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung mit einem Isolationsbereich und mit Diesem Verfahren Hergestellte Halbleitervorrichtung

EP1927133 Art A2 4. Juni 2008

Anmelder: NXP B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1927133
Aktenzeichen
EP06795914
Anmeldetag
5. September 2006
Veröffentlichung
4. Juni 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
NXP B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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