Rückseiten-Siliziumwafer-Entwurf zur Reduktion von Bildartefakten aus Infrarotstrahlung
EP1929527
Art A2
11. Juni 2008
Anmelder: Aptina Imaging Corporation, Micron Technology, Inc. 🇰🇾
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1929527
- Aktenzeichen
- EP06788721
- Anmeldetag
- 27. Juli 2006
- Veröffentlichung
- 11. Juni 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/146H01L31/0236
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Aptina Imaging Corporation
Micron Technology, Inc. - Land
- 🇰🇾 KY
🇺🇸
Micron Technology
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.
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Kanzlei
Carpmaels & Ransford LLP
Carpmaels & Ransford gehört zu den ältesten IP-Kanzleien überhaupt und geht auf eine 1776 gegründete Patentagentur zurück. Von London, München und Dublin aus führt sie als eine der wenigen Häuser Parallelverfahren vor EPA, UPC und britischen Gerichten aus einem Team.
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