Hochreines Hafnium, Target und Hochreines Hafnium Umfassender Dünner Film und Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Hafnium
EP1930451
Art B9
26. Oktober 2011
Anmelder: Nippon Mining & Metals Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1930451
- Aktenzeichen
- EP06766584
- Anmeldetag
- 12. Juni 2006
- Veröffentlichung
- 26. Oktober 2011
- Erteilung
- 26. Oktober 2011
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C22B34/14B22D27/02C22B9/22C22C28/00C23C14/34C23C14/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Mining & Metals
Nippon Mining & Metals war ein japanisches Unternehmen für Metallverarbeitung und Halbleitermaterialien, heute Teil von JX Nippon Mining & Metals. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Fertigungs- und Chemietechnik. Die Anmeldungen stammen überwiegend aus den Jahren 2000 bis 2010 und betreffen unter anderem Kupferfolienverbundstoffe.
291 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte