Vorrichtung und Verfahren zur Beeinflussung der Polarisationsverteilung in einem Optischen System, insbesondere in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1932061
Art A1
18. Juni 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1932061
- Aktenzeichen
- EP06793831
- Anmeldetag
- 26. September 2006
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B5/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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