Filmbildungsvorrichtung, Filmbildungssystem, Filmbildungsverfahren und Verfahren zur Fertigung eines Elektronischen Bauteils oder eines Organischen Elektrolumineszenten Elements

EP1932937 Art B1 5. März 2014

Anmelder: TOHOKU UNIVERSITY, TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1932937
Aktenzeichen: EP06783187
Anmeldetag: 5. September 2006
Veröffentlichung: 5. März 2014
Erteilung: 5. März 2014
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/24C23C14/12H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOHOKU UNIVERSITY
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von