Vorrichtung und Verfahren zum Messen des Strahlwinkels und der Divergenz bezüglich der Ebene des Strahls im Falle eines Bandstrahls, beziehungsweise, im Falle eines Nadelstrahls, bezüglich der Ebene, in der der Strahl abgelenkt wird
Anmelder: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1933361
- Aktenzeichen
- EP08000818
- Anmeldetag
- 7. Juli 2005
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/317H01J37/304H01J37/244
Abstract
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Anmelder
- Firma
- AXCELIS TECHNOLOGIES, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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Fachgebiete
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