Substratreinigungsvorrichtung, Substratreinigungsverfahren, Substratreinigungsprogramm und Programmaufzeichnungsmedium

EP1933374 Art B1 11. April 2012

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1933374
Aktenzeichen: EP06810317
Anmeldetag: 20. September 2006
Veröffentlichung: 11. April 2012
Erteilung: 11. April 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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