Verfahren zur Verbesserung des selektiven Epitaxial-Wachstumsprozesses

EP1936670 Art A3 1. Mai 2013

Anmelder: IMEC, Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC) 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1936670
Aktenzeichen: EP07447070
Anmeldetag: 21. Dezember 2007
Veröffentlichung: 1. Mai 2013
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/20H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: IMEC
Interuniversitair Microelektronica Centrum (IMEC)
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

2.629 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von