Verfahren zur Substratbearbeitung, Computerlesbares Aufzeichnungsmedium, Vorrichtung zur Substratbearbeitung und System zur Substratbearbeitung

EP1942521 Art A1 9. Juli 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tokyo Electron Limited (TEL) 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1942521
Aktenzeichen: EP07742390
Anmeldetag: 25. April 2007
Veröffentlichung: 9. Juli 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/316H01L21/31H01L29/78H01L21/67H01L21/28H01L21/314H01L29/51

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Tokyo Electron Limited (TEL)
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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