Verfahren für den Betrieb eines EUV-Lithografiegeräts und EUV-Lithografiegerät

EP1944652 Art A1 16. Juli 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1944652
Aktenzeichen
EP07000471
Anmeldetag
10. Januar 2007
Veröffentlichung
16. Juli 2008
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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