Verfahren zur Herstellung eines Substratmontagetisches

EP1944800 Art A3 2. September 2009

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1944800
Aktenzeichen: EP07024203
Anmeldetag: 13. Dezember 2007
Veröffentlichung: 2. September 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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