Verfahren zur Herstellung einer CMOS-Vorrichtung mit dualer Austrittsarbeit

EP1944801 Art A1 16. Juli 2008

Anmelder: IMEC, Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd., Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D, Katholieke Universiteit Leuven, K.U. Leuven R&D, Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1944801
Aktenzeichen
EP07011442
Anmeldetag
12. Juni 2007
Veröffentlichung
16. Juli 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/8238H01L21/8234
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
IMEC
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.
Katholieke Universiteit Leuven K.U. Leuven R&D
Katholieke Universiteit Leuven, K.U. Leuven R&D
Interuniversitair Micro-Elektronica Centrum
Land
🇧🇪 Belgien
🇧🇪 imec

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