Anorganisches Substrat mit Dünner Glasschicht vom Siliciumdioxidtyp, Verfahren zur Herstellung des Obigen Substrats, Beschichtungsmittel und Halbleitervorrichtung
EP1945833
Art A2
23. Juli 2008
Anmelder: Dow Corning Toray Co., Ltd., Dow Corning Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1945833
- Aktenzeichen
- EP06822548
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C18/02C23C18/14C23C20/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Dow Corning Toray Co., Ltd.
Dow Corning Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇺🇸
Dow Corning
US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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Ede, Eric
Glasgow, Großbritannien
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