Selektive Entfernung einer Siliciumoxidschicht
EP1946368
Art A1
23. Juli 2008
Anmelder: STMicroelectronics (Crolles 2) SAS, STMICROELECTRONICS SA, NXP B.V. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1946368
- Aktenzeichen
- EP06841264
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3115H01L21/8238H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- STMicroelectronics (Crolles 2) SAS
STMICROELECTRONICS SA
NXP B.V. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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🇳🇱
NXP Semiconductors
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
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Fachgebiete
Vertreten von
Schouten, Marcus Maria
Eindhoven, Niederlande
3.201
Patente gesamt
30
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
de Beaumont, Michel
NoneGrenoble