Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP1947510
Art B1
12. März 2014
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1947510
- Aktenzeichen
- EP06823251
- Anmeldetag
- 9. November 2006
- Veröffentlichung
- 12. März 2014
- Erteilung
- 12. März 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Liénard, Benoît
Paris, Frankreich
44
Patente gesamt
14
Fachgebiete
10
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hart-Davis, Jason
NoneParis
-
Portal, Gérard
NoneParis