Verfahren zum Abscheiden von Schichten in einem Cvd-Reaktor sowie Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
EP1951931
Art B1
29. Dezember 2010
Anmelder: AIXTRON AG, AIXTRON Aktiengesellschaft 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1951931
- Aktenzeichen
- EP06830060
- Anmeldetag
- 21. November 2006
- Veröffentlichung
- 29. Dezember 2010
- Erteilung
- 29. Dezember 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- AIXTRON AG
AIXTRON Aktiengesellschaft - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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Fachgebiete
Vertreten von
Rieder, Hans-Joachim
Wuppertal, Deutschland
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