System und Verfahren zur Formung von Laserlicht als Homogenen Linienstrahl zur Wechselwirkung mit einem auf einem Substrat Abgelagerten Film

EP1952105 Art B1 4. April 2012

Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1952105
Aktenzeichen
EP06826398
Anmeldetag
20. Oktober 2006
Veröffentlichung
4. April 2012
Erteilung
4. April 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336G02B3/00B23K26/06B23K26/067B23K26/073
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Cymer, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Vertreten von
Weigelt, Udo München, Deutschland
54
Patente gesamt
22
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Nachrichtentechnik & Telekommunikation Elektronik & Schaltungstechnik Medizintechnik & Gesundheit Maschinenelemente & Fluidtechnik
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