Seitlich Gewachsene Nanoröhren und Herstellungsverfahren
EP1952454
Art A2
6. August 2008
Anmelder: Freescale Semiconductor, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1952454
- Aktenzeichen
- EP06851891
- Anmeldetag
- 27. September 2006
- Veröffentlichung
- 6. August 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/08H01L35/24H01L51/00B82B3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Freescale Semiconductor, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Freescale Semiconductor
Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.
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Ferro, Frodo Nunes
Toulouse, Frankreich
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