Vorrichtung und Verfahren zur Substratreinigung sowie Speichermedium

EP1952899 Art B1 13. Januar 2010

Anmelder: Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1952899
Aktenzeichen: EP08001588
Anmeldetag: 29. Januar 2008
Veröffentlichung: 13. Januar 2010
Erteilung: 13. Januar 2010
Rechtsraum: EP
IPC: B08B3/02H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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