Silphenylenhaltiges Polymer, lichthärtbare Harzzusammensetzung, Musterungsverfahren und Substratschaltungsschutzfilm
EP1953183
Art B1
4. September 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1953183
- Aktenzeichen
- EP08250362
- Anmeldetag
- 30. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 4. September 2013
- Erteilung
- 4. September 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G77/60C08J5/18C08J7/04C08L83/16C09D183/16G03F7/075H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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