Magnetron-Sputtervorrichtung

EP1953257 Art B1 17. August 2011

Anmelder: TOHOKU UNIVERSITY, Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1953257
Aktenzeichen
EP06811440
Anmeldetag
6. Oktober 2006
Veröffentlichung
17. August 2011
Erteilung
17. August 2011
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/35
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
TOHOKU UNIVERSITY
Tokyo Electron Ltd.
Land
🇯🇵 Japan

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik
Vertreten von
Glawe, Ulrich München, Deutschland
19
Patente gesamt
11
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Nachrichtentechnik & Telekommunikation Software & Datenverarbeitung Pharma & Biotechnologie Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik Medizintechnik & Gesundheit
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