Substratverarbeitungsverfahren, Fotomasken-Herstellungsverfahren, Fotomaske und Bauelemente-Herstellungsverfahren

EP1953806 Art A1 6. August 2008

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1953806
Aktenzeichen: EP06832716
Anmeldetag: 16. November 2006
Veröffentlichung: 6. August 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027G03F1/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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