Verwendung eines Poliermittels zum Selektiven Polieren eines Siliziumoxidfilms auf Polysilizium

EP1956642 Art A1 13. August 2008

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1956642
Aktenzeichen: EP06823259
Anmeldetag: 9. November 2006
Veröffentlichung: 13. August 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3105C09G1/02C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von