Brausenplatte und Plasmabehandlungsvorrichtung mit Brausenplatte

EP1956645 Art A1 13. August 2008

Anmelder: TOHOKU UNIVERSITY, Tokyo Electron Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1956645
Aktenzeichen: EP06823049
Anmeldetag: 7. November 2006
Veröffentlichung: 13. August 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/31C23C16/455H01L21/3065C23C16/511H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOHOKU UNIVERSITY
Tokyo Electron Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von