Reflexionsmaske für die Lithographie und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP1960835
Art B1
17. Juli 2013
Anmelder: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives, Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives, COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1960835
- Aktenzeichen
- EP06830321
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2013
- Erteilung
- 17. Juli 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/54B82Y10/00B82Y40/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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Fachgebiete
Vertreten von
Guérin, Michel
Arcueil, Frankreich
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5
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Schwerpunkte