Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP1962139 Art A1 27. August 2008

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1962139
Aktenzeichen: EP08003265
Anmeldetag: 22. Februar 2008
Veröffentlichung: 27. August 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/031G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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