Substrathalteeinrichtung, Belichtungseinrichtung, Belichtungsverfahren und Bauelemente-Herstellungsverfahren

EP1962329 Art B1 6. August 2014

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1962329
Aktenzeichen: EP06834307
Anmeldetag: 8. Dezember 2006
Veröffentlichung: 6. August 2014
Erteilung: 6. August 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/687G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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