Interferometrisches Lithografiesystem und Verfahren zum Erzeugen von Gleichen Weglängen Interferierender Strahlen
EP1966651
Art A2
10. September 2008
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1966651
- Aktenzeichen
- EP06838970
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 10. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Roberts, Peter David
NoneManchester