Lithographische Vorrichtung mit einer Reinigungseinrichtung und Verfahren zum Reinigen eines Optischen Elements
EP1969427
Art A1
17. September 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1969427
- Aktenzeichen
- EP06812762
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 17. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G21K1/00B08B7/00H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Swinkels, Bart Willem
NoneDen Haag