Verfahren zum Herstellen einer Dielektrischen Schicht mit Hohem K
EP1969619
Art A1
17. September 2008
Anmelder: IMEC, Panasonic Corporation, INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM vzw (IMEC), MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 🇧🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1969619
- Aktenzeichen
- EP06822407
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2006
- Veröffentlichung
- 17. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IMEC
Panasonic Corporation
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM vzw (IMEC)
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. - Land
- 🇧🇪 Belgien
🇧🇪
imec
Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.
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Panasonic
Japanischer Konzern, der Haushaltsgeräte, Unterhaltungselektronik, Batterien sowie Komponenten und Lösungen für Industrie und Automobilbau entwickelt und herstellt.
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