Resistzusammensetzung mit einem Harz um eine Resistoberfläche wasserabweisend zu machen, Herstellungsverfahren dafür
EP1970760
Art B1
26. Dezember 2012
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1970760
- Aktenzeichen
- EP08004852
- Anmeldetag
- 14. März 2008
- Veröffentlichung
- 26. Dezember 2012
- Erteilung
- 26. Dezember 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/039G03F7/075G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München