Lichtempfindliche Zusammensetzung und Herstellungsverfahren für ein gehärtetes Reliefmuster

EP1970761 Art B1 29. Februar 2012

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1970761
Aktenzeichen: EP08004849
Anmeldetag: 14. März 2008
Veröffentlichung: 29. Februar 2012
Erteilung: 29. Februar 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/023G03F7/039H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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