Vorrichtung zur Substratverarbeitung, Verfahren zur Substratverarbeitung und Speichermedium

EP1970940 Art A3 4. Januar 2012

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1970940
Aktenzeichen: EP08004857
Anmeldetag: 14. März 2008
Veröffentlichung: 4. Januar 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00H01L21/027H01L21/033H01L21/67C25D11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von