Silicid-Schichten in Kontakten für Hoch-K-/metall-Gate-Transistoren
EP1972004
Art A2
24. September 2008
Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1972004
- Aktenzeichen
- EP06839218
- Anmeldetag
- 6. Dezember 2006
- Veröffentlichung
- 24. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Intel Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Intel
US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.
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Want, Clifford James
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