Vortex-Struktur mit durchgehender Flusstrennung hohen Durchlaufs
EP1972379
Art B1
29. November 2017
Anmelder: Palo Alto Research Center Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1972379
- Aktenzeichen
- EP08151741
- Anmeldetag
- 21. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 29. November 2017
- Erteilung
- 29. November 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B03B5/32B04C5/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Palo Alto Research Center Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Palo Alto Research Center
US-amerikanisches Forschungsinstitut in Palo Alto, bekannt als PARC, das für Xerox und externe Auftraggeber Grundlagen- und angewandte Forschung in Informatik, Elektronik und Materialwissenschaften betreibt.
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