Resistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung dieser und Strukturierungsverfahren welches die Resistzusammensetzung verwendet

EP1972641 Art A3 30. Dezember 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1972641
Aktenzeichen: EP08005504
Anmeldetag: 25. März 2008
Veröffentlichung: 30. Dezember 2009
Rechtsraum: EP
IPC: C08F2/38G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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