Zusammensetzung zur Bildung eines Siliciumhaltigen Resist-Unterlageschichtfilms zur Bildung eines mit Fotovernetzung Ausgehärteten Resistunterlageschichtfilms

EP1972998 Art A1 24. September 2008

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1972998
Aktenzeichen: EP06833856
Anmeldetag: 1. Dezember 2006
Veröffentlichung: 24. September 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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