(110)-ausgerichtetes Siliziumsubstrat und gebondetes Substratpaar mit diesem (110)-ausgerichteten Siliziumsubstrat sowie entsprechende Herstellungsverfahren dafür
EP1973150
Art A1
24. September 2008
Anmelder: Soitec, S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies S.A. 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1973150
- Aktenzeichen
- EP07290338
- Anmeldetag
- 20. März 2007
- Veröffentlichung
- 24. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Soitec
S.O.I. Tec Silicon on Insulator Technologies S.A. - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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