Substratreinigungsvorrichtung, Substratreinigungsverfahren, Substratbehandlungssystem und Aufzeichnungsmedium

EP1973152 Art A1 24. September 2008

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1973152
Aktenzeichen: EP06832964
Anmeldetag: 20. November 2006
Veröffentlichung: 24. September 2008
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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