Chemisch verstärkte negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern

EP1975711 Art B1 19. August 2015

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1975711
Aktenzeichen: EP08005856
Anmeldetag: 27. März 2008
Veröffentlichung: 19. August 2015
Erteilung: 19. August 2015
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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