Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit

EP1975712 Art A3 2. Juni 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1975712
Aktenzeichen: EP08005790
Anmeldetag: 27. März 2008
Veröffentlichung: 2. Juni 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F2/38C08F4/04G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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