Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung

EP1975714 Art A1 1. Oktober 2008

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1975714
Aktenzeichen: EP08005895
Anmeldetag: 27. März 2008
Veröffentlichung: 1. Oktober 2008
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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