Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
EP1975716
Art B1
15. Mai 2013
Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1975716
- Aktenzeichen
- EP08006057
- Anmeldetag
- 28. März 2008
- Veröffentlichung
- 15. Mai 2013
- Erteilung
- 15. Mai 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004G03F7/20G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujifilm Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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Fachgebiete
Vertreten von
Siegert, Georg
München, Deutschland
452
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33
Fachgebiete
22
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München