Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1975721
Art A1
1. Oktober 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1975721
- Aktenzeichen
- EP08011486
- Anmeldetag
- 30. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon