Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren

EP1975979 Art B1 15. August 2012

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1975979
Aktenzeichen: EP06834803
Anmeldetag: 15. Dezember 2006
Veröffentlichung: 15. August 2012
Erteilung: 15. August 2012
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/00B05C11/06G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von