Mehrschichtiges Halbleiterwafer und Verfahren zu seiner Herstellung

EP1975988 Art B1 25. Februar 2015

Anmelder: Siltronic AG, IHP GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1975988
Aktenzeichen
EP07006387
Anmeldetag
28. März 2007
Veröffentlichung
25. Februar 2015
Erteilung
25. Februar 2015
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316H01L29/51H01L21/762H01L21/20// H01B3/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Siltronic AG
IHP GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Siltronic

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

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