Mehrschichtiges Halbleiterwafer und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1975988
Art B1
25. Februar 2015
Anmelder: Siltronic AG, IHP GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1975988
- Aktenzeichen
- EP07006387
- Anmeldetag
- 28. März 2007
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2015
- Erteilung
- 25. Februar 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L29/51H01L21/762H01L21/20// H01B3/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Siltronic AG
IHP GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Siltronic
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
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Vertreten von
Baar, Christian
München, Deutschland
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