Halbleiterschaltvorrichtung mit hoher Durchbruchspannung und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1976011
Art A3
31. März 2010
Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1976011
- Aktenzeichen
- EP08002482
- Anmeldetag
- 11. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 31. März 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/12H01L29/786H01L21/331H01L29/06H01L29/10H01L29/417H01L29/40H01L29/78H01L21/336H01L29/08H01L29/739// H01L21/762
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
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23
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Schwerpunkte
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