Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit Konzentrationsgefälle und entsprechende Vorrichtung
EP1978547
Art A1
8. Oktober 2008
Anmelder: STMICROELECTRONICS SA, STMicroelectronics (Crolles 2) SAS 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1978547
- Aktenzeichen
- EP08103299
- Anmeldetag
- 1. April 2008
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- STMICROELECTRONICS SA
STMicroelectronics (Crolles 2) SAS - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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Zapalowicz, Francis
München, Deutschland
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