Verfahren zur Behandlung eines Sauerstoff Enthaltenden Halbleiterwafers und Halbleiterbauelement
EP1979934
Art B1
21. April 2010
Anmelder: Infineon Technologies Austria AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1979934
- Aktenzeichen
- EP07702904
- Anmeldetag
- 19. Januar 2007
- Veröffentlichung
- 21. April 2010
- Erteilung
- 21. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/322H01L21/265H01L21/263
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies Austria AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇦🇹
Infineon Technologies Austria
Österreichische Konzerngesellschaft des deutschen Halbleiterherstellers Infineon mit Sitz in Villach. Entwickelt und fertigt Halbleiterbauelemente für Automobil-, Energie- und Industrieanwendungen.
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Bickel, Michael
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