Verfahren zum Herstellen eines Soi-Wafers

EP1981063 Art B1 7. April 2021

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1981063
Aktenzeichen: EP06781029
Anmeldetag: 12. Juli 2006
Veröffentlichung: 7. April 2021
Erteilung: 7. April 2021
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/84H01L21/762H01L27/12// H01L21/20H01L21/324

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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